HI 84100二氧化硫滴定分析儀性能：

• 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體
• 性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果
• 人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。

HI 84100二氧化硫滴定分析儀技術參數：

型號	HI 84100
滴定范圍	0 to 400 ppm of SO₂
滴定方法	等電位氧化還原滴定法
滴定精度	讀數的5%
取樣量	50 mL
ORP電極	HI 3148B
供電方式	220V/60 Hz；10VA
使用環境	0 to 50°C （32 to 122°F）；RH max 95%
尺寸重量	208 × 214 × 163 mm；2200 g

HI 84100二氧化硫滴定分析儀及價格

HI 84100

食品行業二氧化硫滴定分析測定，HI3148B電極，滴定試劑，相關附件，中英文手冊 '

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HI84100二氧化硫滴定分析儀

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